觀點網訊:10月27日,英飛凌宣佈,將在歐洲建立全球首個基於300毫米晶圓的新一代氮化鎵(GaN)功率半導體大規模生產基地。
作為該項目的一部分,英飛凌計劃到2034年向奧地利菲拉赫工廠的現有潔淨室設施投入約11億歐元,旨在利用現有及升級後的基礎設施實現產能擴張。
該基地計劃2027年底投產。
英飛凌10月27日宣佈,將在歐洲建立全球首個基於300毫米晶圓的新一代氮化鎵功率半導體大規模生產基地,計劃到2034年向奧地利菲拉赫工廠投入約11億歐元,該基地計劃2027年底投產。
觀點網訊:10月27日,英飛凌宣佈,將在歐洲建立全球首個基於300毫米晶圓的新一代氮化鎵(GaN)功率半導體大規模生產基地。
作為該項目的一部分,英飛凌計劃到2034年向奧地利菲拉赫工廠的現有潔淨室設施投入約11億歐元,旨在利用現有及升級後的基礎設施實現產能擴張。
該基地計劃2027年底投產。
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