觀點網訊：10月11日，普達特科技（650.HK）公佈半導體設備業務進展，公司自公告日期起共取得29臺新設備訂單，其中14臺為半導體設備新訂單，包含單片清洗設備與爐管LPCVD設備。

該等設備系統主要應用於客戶的高端特色工藝半導體與第三代半導體產線，覆蓋晶圓前後段工藝。

具體來看，訂單包括OCTOPUS與OCTOPUS-SP單片清洗設備，用於12寸晶圓背面清洗、Solvent清洗、RCA清洗等工藝，其中含四臺硫酸清洗設備；CUBE單片清洗設備，用於背面清洗與刻蝕工藝；以及爐管LPCVD設備，用於12寸SiN薄膜沉積工藝。

公告稱，該等設備訂單均為正式訂單，暫未確認收入，公司將在客戶通過驗證後確認收入。

技術方面，公司自主研發的半導體清洗與爐管LPCVD/ALD設備平臺，均可覆蓋成熟製程與先進邏輯、存儲製程，並已開發190℃先進高溫硫酸清洗設備且成功出貨。

公司爐管設備平臺擁有LPCVD與ALD兩大產品線，針對12英寸晶圓SiN、Poly、TEOS等關鍵薄膜沉積工藝；此外已完成開發應用於14/7nm節點的Low-K ALD SiOCN爐管設備，該細分領域目前仍由海外設備商壟斷。